上月，全球光刻机龙头ASML CEO 克里斯托弗富凯在承受媒体采访时表明：我国已经在许多范畴完结自主研发了，假以时日，他们甚至有或许反过来向咱们出口这些产品。

  同在上月25日，依据我国政府采购网公告，上海微电子中标科技部1.1亿元光刻机项目。

  据报道，上海微电子的28nm浸没式DUV光刻机（SSA800系列）已完结多轮工艺验证，整机国产化率打破85%，套刻精度优于2.5纳米，2025年已进入批量交给阶段。